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          • 圖片描述

            重慶真空鍍膜機

            真空鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜,具體包括很多種類,包括真空離子蒸發,磁控濺射,MBE分子束外延,PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發和濺射兩種。

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            產品介紹

            真空鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜,具體包括很多種類,包括真空離子蒸發,磁控濺射,MBE分子束外延,PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發和濺射兩種。
            主要分類有兩個大種類: 蒸發沉積鍍膜和濺射沉積鍍膜,具體則包括很多種類,包括真空離子蒸發,磁控濺射,MBE分子束外延,溶膠凝膠法等等 。
            一、對于蒸發鍍膜:
            一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發出來。
            厚度均勻性主要取決于:
            1?;牧吓c靶材的晶格匹配程度
            2、基片表面溫度
            3. 蒸發功率,速率
            4. 真空度
            5. 鍍膜時間,厚度大小。
            組分均勻性:
            蒸發鍍膜組分均勻性不是很容易保證,具體可以調控的因素同上,但是由于原理所限,對于非單一組分鍍膜,蒸發鍍膜的組分均勻性不好。
            晶向均勻性:
            1。晶格匹配度
            2?;瑴囟?br /> 3。蒸發速率
            濺射鍍膜又分為很多種,總體看,與蒸發鍍膜的不同點在于濺射速率將成為主要參數之一。
            濺射鍍膜中的激光濺射鍍膜pld,組分均勻性容易保持,而原子尺度的厚度均勻性相對較差(因為是脈沖濺射),晶向(外沿)生長的控制也比較一般。

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